在半導體封裝、電子器件制造等精密工藝中，基板表面的有機殘留、光刻膠灰化等污染物，直接影響器件性能與良率。傳統濕法清洗易造成基板損傷，真空清洗設備成本高、操作復雜，而SAMCO UV-1 紫外光臭氧清洗機憑借溫和的干式工藝，成為行業內高效且安全的表面處理解決方案。

這款設備無需真空系統，在大氣壓下即可穩定運行，通過紫外光激發臭氧，配合加熱臺面的溫度控制，實現對硅、玻璃、GaN/GaAs/InP/SiC 等化合物半導體、藍寶石、陶瓷基板的有機物高效去除。可處理 φ100 mm 基板及 4 英寸晶圓，加熱臺面不僅能加快清洗速率，還能模擬實際制程溫度，讓工藝結果更貼近生產場景。

SAMCO UV-1 紫外光臭氧清洗機在設計上充分考慮了工業使用的安全性與便捷性：配備上蓋連鎖機制，上蓋開啟時系統無法運行，避免誤操作；自帶臭氧分解裝置，確保排氣時臭氧濃度降至安全范圍；同時支持自動 N? purge 循環、加熱臺面保險絲保護、臭氧洗滌及緊急停止按鈕，保障生產安全。

它的應用場景十分廣泛：可用于塑膠封裝及引線框架的表面清洗，也能完成化合物半導體的表面處理；還能實現表面改質（提升親水性與附著力）、表面氧化（形成氧化薄膜）、光阻灰化與殘留清洗等多種工藝需求，是半導體研發、小批量生產的理想設備。

作為 SAMCO 品牌的經典機型，UV-1 以其精簡緊湊的結構、穩定可靠的性能，深受電子制造、科研院所用戶的認可。我們提供專業的選型支持、安裝調試與技術服務，可根據您的基板類型與工藝需求，定制清洗方案。