產品資料
HINDS Exicor 光學雙折射檢測設備
產品名稱: HINDS Exicor 光學雙折射檢測設備
產品型號: Exicor®50/1S
產品特點: HINDS Exicor 光學雙折射檢測設備是美國亨德斯儀器推出的光學檢測設備，覆蓋從實驗室小型樣品到工業級大尺寸元件的全場景雙折射檢測需求，可精準測量光學材料的本征雙折射與應力分布，是半導體光刻、光學制造、材料研發等領域的核心檢測工具。系統采用 PEMLabs™彈性調制器與 Signaloc™鎖相放大器技術，實現超高精度測量，支持 2D/3D 可視化分析，適配深
HINDS Exicor 光學雙折射檢測設備 的詳細介紹
HINDS Exicor 光學雙折射檢測設備
HINDS Exicor 光學雙折射檢測設備
是美國亨德斯儀器推出的光學檢測設備，專為半導體光刻、光學材料制造、材料應力分析等領域設計，為全尺寸、全波段光學元件的雙折射檢測提供高精度、高穩定性的專業解決方案。
全系列產品覆蓋多場景檢測需求：Exicor 50/1S 為緊湊型臺式系統，適配實驗室小型樣品檢測；Exicor 400 為大臺面系統，支持最大 400mm×400mm 大尺寸光學元件檢測；Exicor DUV/193 DUV 為深紫外專用系統，聚焦 157nm、193nm、248nm 光刻波段，適配浸沒式 193nm 光刻等工藝，可精準評估氟化鈣（CaF?）透鏡、光刻掩模等光學元件的本征雙折射。
所有系統均采用 PEMLabs™彈性調制器與 Signaloc™鎖相放大器核心技術，延遲分辨率達 0.01nm，重復性 ±0.08nm，角分辨率 0.01°，重復性 ±0.5°，實現行業的測量精度。系統支持雙軸晶格的 2D/3D 圖形可視化，內置高級數據分析功能，直觀呈現光學元件的雙折射與應力分布，同時支持全自動無人值守掃描，可連續運行多個班次，大幅提升檢測效率。
針對深紫外 157nm 測量需求，系統配備獨特的局部氮氣置換系統，避免氧氣對紫外線的吸收，同時防止樣品腔產生臭氧；可見光系統無需氮氣置換，適配不同工藝需求。設備搭載重型自動化 XY 工作臺，支持定制樣品夾具、高速動態掃描、應力估算計算、定制軟件等可選功能，滿足不同客戶的個性化檢測需求。
Exicor 全系列系統廣泛應用于半導體光刻工藝、光學材料制造、CaF?透鏡檢測、光掩模檢測、玻璃 / 塑料應力分析、大尺寸光學元件檢測等領域，是光學元件研發與生產的常用檢測工具。
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